購買紫外臭氧清洗機應(yīng)考慮這三大方面
紫外臭氧清洗機是數(shù)字控制的臺式清洗設(shè)備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個帶反射罩的高強度UV格柵燈盤,和可調(diào)節(jié)高度的樣品臺，用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進出氣接口。該系統(tǒng)由一個方便的預(yù)設(shè)置控制器控制，非常容易操作。能滿足有機分子去除和其他眾多的應(yīng)用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個進氣口通入氧氣來增加臭氧產(chǎn)生。可編程數(shù)字控制器可以控制系統(tǒng)進程，來確保時間和優(yōu)化清洗參數(shù)。常用于掃描探測顯微鏡的樣品應(yīng)用，我們的設(shè)備能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標準和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無機材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學(xué)改性，經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。
紫外臭氧清洗機的應(yīng)用范圍十分廣泛，目前在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用光清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
工作原理：
通過產(chǎn)生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發(fā)表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解，樣品臺可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。
在選擇紫外臭氧清洗機時，應(yīng)遵循以下原則：
1.生產(chǎn)率高和產(chǎn)品質(zhì)量好的原則。生產(chǎn)率的高低直接反映生產(chǎn)線的生產(chǎn)能力。所以生產(chǎn)率越高，其產(chǎn)生的經(jīng)濟效益越好。為了提高產(chǎn)品質(zhì)量，應(yīng)選擇設(shè)備精度高、自動化程度也高的清洗機。但是設(shè)備的售價也相應(yīng)提高，增大了產(chǎn)品的單位成本。因此在選擇產(chǎn)品時，應(yīng)結(jié)合生產(chǎn)工藝要求，對相關(guān)的因素進行綜合考慮。
2.為生產(chǎn)工藝服務(wù)的原則。先應(yīng)根據(jù)物料的性質(zhì)(粘度、起泡性、揮發(fā)性、含氣性等)選擇適宜的設(shè)備，以滿足生產(chǎn)工藝要求。
3.工藝范圍寬的原則。紫外臭氧清洗機的工藝范圍是指其適應(yīng)不同生產(chǎn)要求的能力。工藝范圍越寬，越能提高設(shè)備的利用率，實現(xiàn)一機多用，即利用同一設(shè)備可以清洗多種物料和多種規(guī)格。
以上三方面是選擇紫外臭氧清洗機時應(yīng)該遵循的原則。
